A. Crecimiento de peliculas delgadas y multicapas
A1. Ablacion de laser pulsado con RHEED in-situ (INN-CAC)
A2. Micro y nano-fabricación. Usuarios de sala limpia (MEMS-CAC)
• Litografia óptica
• Ataque ionico inerte y reactivo
• Focused Ion Beam
• Crecimiento de films y multicapas por sputtering
http://www.cnea.gov.ar/nanotecnologia-mems
B. Preparacion de muestras
B1. Sputtering de contactos
B2. Microscopio optico
C. Caracterizacion experimental
C1. Magnetoresistencia
Campo magnetico max. 1.5T
Rango temperature: 10K-300K
C2. Estacion de prueba magnetoresistencia a temperatura ambiente
Campo magnetico max. 0.05T
C3. Curvas de polarización eléctrica
C4. Otras facilidades de caracterizacion (Depto. Materia Condensada)
• Microscopia de fuerza atómica/Microscopia de - fuerza magnética
• Difracción de rayos X/Reflectometria
• Magnetómetro de muestra vibrante
• VERSALAB
• SEM/EDX
Imagen MFM de un film de FePt., Gentileza A. Butera CAB
C4. Usuarios de facilidades de gran escala:
• Synchrotron (XMCD/XMLD, XPEEM): Bessy, Elettra
D. Simulaciones micromagnéticas
Empleo de OOMMF y MUMAX para simulaciones de estructura de dominios magnéticos
Laboratorio de Nanoestructuras Magneticas y Dispositivos
Centro Atómico Constituyentes - CNEA
Av.Gral.Paz 1499
(B1650KNA) San Martín - Buenos Aires
Te: (+54-11) 6772-7118
Fax: (+54-11) 6772-7121
Tel Comm. (+54-11) 6772-7000
-Laura B. Steren